CRF AP PLASMA 噴射型AP等離子處理系統
型號: CRF-APO-R&D-XXXHD
品牌: CRF
CRF AP PLASMA 噴射型AP等離子處理系統可區分大氣型與真空型。主要應用於電子行業的手機殼印刷、塗覆、點膠等前處理,手機螢幕的表面處理、國防工業的航空航太電連接器表面清洗、通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
[產品特點]
- 採用PFC全橋數位式等離子電源,輸出功率穩定,抗干擾能力強, 反應迅速。
- 可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用於不同場合,滿足各種不同產品和處理環境。
- 設備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節省客戶使用空間。
- 可In-Line式安裝於客戶設備產線中,減少客戶投入成本; 使用壽命長,保養維修成本低,便於客戶成本控制。
[規格]
等離子電源型號 |
CRF-APO-R&D-XXXHD |
直噴式等離子噴槍型號 |
直 噴 式 : DXX(Option: 2mm~6mm) |
旋噴式等離子噴槍型號 |
旋 噴 式 : RXX(Option: 20mm~80mm) |
電源 |
220V/AC、50/60Hz |
功率 |
600W/25KHz、選配: 800/1000W |
安全設計 |
短路警報、斷路警報、氣體壓力不足/過高警報、錯誤警報、聲音警報、燈光警報 |
處理高度 |
3-20mm |
處理寬幅 |
直噴式: 1-10mm、 旋噴式: 20mm~80mm |
內部控制模式 |
數位控制 |
外部控制模式 |
RS485/RS232、類比通訊口、啟停 |
氣體操作範圍 |
0.1~1mpa、建議操作壓力: Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa) |
顯示器 |
3吋 |